模具涂鍍層

    ADLC

   無定形金剛石硬質合金材料含有大量的SP3而且具有所需的金剛石和石墨的優良性能。批次一個批次指能在同一爐，同一時間進行涂層的零件組陰極陰極是一個PVD語術，通常指陰極源或靶材，更嚴格地說指陰極，是靶材安裝的極板，并在涂層工序中發生氣化。

    CVA

    鋁化化學氣相沉積過程擴散鋁合金到部件表面，提高抗高溫能力，防腐和抗氧化性能。

    CVD

   化學氣相沉積過程是由反應氣體通過化學反應進行涂層沉積，在標準的CVD情況下，該反應在800—1050℃的高溫下進行。工藝時間涂層時間是一個完整的過程，從一批次裝載到涂層、冷卻和卸載。

    微米

    微米是百萬分之一米

    PACVD

   離子活化CVD或離子加強CVD，這是CVD的低溫（低于200℃）的加工過程，在PACVD情況下，通過RF電源進**體反應。

    PECVD

    離子加強CVD

    PVD

   物**相沉積是在涂層設備爐膛，通過靶材的氣化沉積涂層的物理過程。源源是PVD語術，它是一種裝置，用來裝夾靶材，同時包括觸發器，磁體，殼體和冷卻系統，源有時指陰極。

    sp2

    硬質合金原子類似于石墨

    sp3

    硬質合金原子類似于天然金剛石

    基體

    涂層是的基體材料

    靶材

    target是PVD語術，指被氣化的金屬材料，靶材與源一起通常范指陰極或源。